Radiation source for use in lithographic projection apparatus

리소그래피 투영장치용 방사원


리소그래피투영장치의 방사 시스템의 방사원은 방전이 핀치 체적내에서 붕괴시키도록 전극 사이의 공간에서 방전을 일으키는 전극을 포함한다. 붕괴 방전은 핀치 체적내에 고이온화된 고온의 플라즈마를 생성한다. 작동유체는 제트 노즐로부터 분출되어 핀칭 체적으로 들어가고, 이에 따라 고온 상태가 되어 극자외선 방사선을 방출한다.
A radiation source of a radiation system of a lithographic projection apparatus comprises electrodes for creating a discharge in a space between them such that the discharge collapses into a pinch volume. The collapsing discharge creates a highly ionized, high temperature plasma in the pinch volume. A working fluid is ejected from a jet nozzle into the pinching volume and is thereby raised to a high temperature state and emits extreme ultraviolet radiation. <IMAGE>




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